Noblista i legenda Intela jako eksperci w naszych rekrutacjach! „Jesteśmy pewni, że stworzenie tak wyjątkowego procesu rekrutacyjnego, w który zaangażowaliśmy ekspertów światowej klasy, zapewni ogromną wartość, ciekawą wymianę doświadczeń i najlepsze możliwe wybory rekrutacyjne!” – powiedziała nam Tatiana Borys, nasza HR Business Partner, o korzyści płynącej z procesu rekrutacji w naszym Instytucie na stanowiska dyrektorów w nowoutworzonych centrach. Czym jest ta korzyść?
Na najważniejsze stanowiska wdrażamy dodatkowy etap w procesie rekrutacyjnym – Międzynarodowy Panel Rekrutacyjny. W trakcie jego trwania wybrani kandydaci będą mogli zaprezentować swoją sylwetkę, dorobek oraz pomysły na rozwój Instytutu przed ekspertami w swojej dziedzinie nauki:
– Prof. Hiroshi Amano, który jest jednym z najbardziej uznanych i wybitnych naukowców zajmujących się materiałami półprzewodnikowymi na bazie azotku galu (GaN), a także urządzeniami i technikami charakteryzacji. Jego pionierskie prace nad opracowaniem pierwszych diod emitujących światło niebieskie zostały wielokrotnie nagrodzone, w tym Nagrodą Nobla w dziedzinie fizyki w 2014 roku, oraz przyczyniły się do poprawy jakości życia i rozwiązania problemów zmian klimatycznych na Ziemi.
Profesor Amano od lat współpracuje również z polskimi jednostkami naukowymi, zwłaszcza z Instytutem Wysokich Ciśnień Polskiej Akademii Nauk, jest także najważniejszym współpracownikiem naszego Instytutu w dziedzinie elektroniki na bazie azotku galu.
– Robert S. Chau pracuje w Intel jako Dyrektor Działu Badań Komponentów w zakresie rozwoju technologii w firmie Intel Corporation. Odpowiada za wysiłki badawcze firmy Intel, w tym badania wewnętrzne i współpracę zewnętrzną, aby wspierać rozwój technologii Intela w przyszłości.
Chau zdobył 7 nagród Intel Achievement Awards, w tym jedną za badania i rozwój technologii tranzystorów Tri-Gate 22 nm firmy Intel. Otrzymał nagrodę SEMI Award 2008 dla Ameryki Północnej za rozwój technologii krzemowej 90 nm firmy Intel oraz nagrody EDN Innovator of the Year 2008 za rozwój technologii tranzystorów Intel z metalową bramką 45 nm high-k. Chau otrzymał medal IEEE Jun-ichi Nishizawa 2012 za “sustained leadership in developing innovative transistor technologies for advanced logic products”.