Wykonywanie fotolitograficznych masek chromowych dla technologii półprzewodnikowych oraz innych aplikacji wymagających dużej precyzji i wysokiej rozdzielczości wykonania wzoru (np. podłoża kalibracyjne). Wykonujemy maski o wymiarach maksymalnych 8×8 cali na standardowych płytach szklanych oraz płytach kwarcowych pokrytych metalicznym chromem. Standardowo wykonujemy maski w rozmiarze 4″x4″, 5″x5″ i 7″x7″, wymiar krytyczny 1,5um (standard) i 0,8um (high quality mode). Wymiar krytyczny mniejszy niż 0,8um na zapytanie. Oferujemy także wsparcie na etapie wykonywania projektów masek fotolitograficznych.