Elipsometria to szybka i nieniszcząca technika optyczna, która umożliwia precyzyjną analizę cienkowarstwowych struktur na podstawie zmian stanu polaryzacji światła odbijanego od powierzchni próbki. Metoda ta pozwala na określenie grubości warstw, ich składu chemicznego oraz parametrów optycznych, takich jak współczynniki załamania i absorpcji.
Technika elipsometryczna jest szczególnie przydatna w badaniach heterostruktur półprzewodnikowych, warstw dielektrycznych i metalicznych, w tym również nanokrystalicznych, gdzie możliwa jest także ocena wielkości ziaren. Elipsometria umożliwia analizę widmową przerwy zabronionej i wyznaczanie punktów krytycznych w strukturze pasmowej materiału.
Pomiary realizowane są przy użyciu elipsometru Horiba UVISEL2-DUV, który umożliwia badania w szerokim zakresie spektralnym od ultrafioletu próżniowego (150 nanometrów) do zakresu podczerwieni. Zdolność analizy w zakresie UV stanowi unikatową cechę dostępnej aparatury i otwiera możliwości badań niedostępnych dla standardowych systemów elipsometrycznych.