Osadzanie technikami próżniowymi cienkich warstw i powłok metalicznych, dielektrycznych i półprzewodnikowych o określonych właściwościach funkcjonalnych na różnych detalach i podłożach
Opis Technologii:
Technologia obejmuje osadzanie: – metali konwencjonalnych i trudnotopliwych (Ti, Al, Mo, Cu, Ni, Mg, W, Au, Pt, Cr itp.) oraz ich roztworów stałych i mieszanin
– związków o podwyższonej odporności mechanicznej i termicznej (TiN, TiC, RuSiO itp.)
– warstw dielektrycznych wytwarzanych metodami PECVD (SiO2, SiNx, SiOxNy, MgO, wielowarstwy)
– przezroczystych związków przewodzących, ekranujących lub odbijających promieniowanie elektromagnetyczne (ZnO:Al, ITO)
– tlenków półprzewodnikowych (ZnO, In-Ga-Zn-O i inne)
– materiałów niekonwencjonalnych osadzanych w podwyższonej temperaturze do 1000oC
– struktur i powłok porowatych osadzanych technikami próżniowymi z obróbką termiczną w skali do 6” średnicy: (1) czarne absorbujące światło powłoki porowatego Zn oraz (2) białe powłoki porowatego ZnO domieszkowanego metalami do czujników gazowych
– warstw metali (Au, Cu) o grubości do kilku mikrometrów metodą elektrochemiczną
Usługi
- Osadzanie: metali konwencjonalnych i trudnotopliwych oraz ich roztworów stałych i mieszanin technikami próżniowymi
- Osadzanie związków o podwyższonej odporności mechanicznej i termicznej
- Osadzanie warstw dielektrycznych
- Osadzanie przezroczystych związków przewodzących, ekranujących lub odbijających promieniowanie elektromagnetyczne
- Osadzanie tlenków półprzewodnikowych
- Osadzanie struktur i powłok porowatych technikami próżniowymi z obróbką termiczną w skali do 6” średnicy: (1) czarne absorbujące światło powłoki porowatego Zn oraz (2) białe powłoki porowatego ZnO domieszkowanego metalami do czujników gazowych
- Osadzanie warstw Au lub Cu o grubości do kilku mikrometrów