Trzy lata po złożeniu pierwszego zamówienia w firmie Veeco (dawniej Epivulac) na nowy system osadzania chemicznego (CVD) w podwójnej konfiguracji spotkaliśmy się z przedstawicielami firmy: Per-Andersem Erikssonen i Rogerem Nilssonem, aby ustalić ramy współpracy po uruchomieniu reaktora.

„To nowoczesne urządzenie pozwoli na znaczne rozszerzenie możliwości badawczych naszego Instytutu w dziedzinie epitaksji i jednocześnie pomoże w efektywnej komercjalizacji wyników naszych badań” – powiedział Piotr Cywiński, Lider obszaru ds. współpracy zagranicznej.

Firma Veeco dostarczyła i zainstalowała w Łukasiewicz – IMiF reaktor umożliwiający epitaksję węglika krzemu i azotku galu, zapraszamy wszystkie zainteresowane strony z obszaru technologii GaN i SiC do kontaktu z naszym Instytutem. Wraz z epitaksją oferujemy również możliwość bezpośredniej charakteryzacji otrzymanych warstw epitaksjalnych.

Roger Nilsson, dyrektor ds. technicznych w Veeco: “Rozwój reaktora rozpoczął się lata temu we współpracy z Uniwersytetem w Linköping. W ostatnich kilku latach udoskonaliliśmy ten projekt, tworząc zupełnie nową platformę. Reaktor był pierwotnie zaprojektowany dla 8-calowych podłoży, co wymagało nowych rozwiązań w kontroli profilu temperatury i stężenia przepływu gazu na dużych podłożach. Nasz reaktor ma także unikalną cechę, która umożliwia łączenie dwóch lub więcej systemów w WBG-Multi-Reactor-CVD-System. Takie wielosystemowe podejście pozwala użytkownikowi zoptymalizować zachodzącą chemię w każdym reaktorze, co prowadzi do bardzo wysokiej wydajności.”

Systemy wyposażono w automatyczny manipulator podłoży, który łączy oba reaktory. W celu zwiększenia zdolności produkcyjnych, podłoża są podgrzewane i schładzane przed podaniem do reaktora. Veeco oferuje rozwiązanie “pod klucz”, obejmujące wsparcie w uruchomieniu systemu i podstawowego wzrostu epitaksjalnego. Nowy ER3 zawiera również opatentowany element, który minimalizuje wyginanie podłoży podczas epitaksji.