Nowy wielopolowy wieloskalowy model spiekania wspomaganego polem elektrycznym

Konsorcjanci

Łukasiewicz Instytut Mikroelektroniki i Fotoniki

Finansowanie

Realizacja

Projekt finansowany przez Narodowe Centrum Nauki w ramach konkursu OPUS 19 (nr umowy UMO-2020/37/B/ST8/03907).

Całkowita wartość projektu:

Całkowite dofinansowanie: 

Data rozpoczęcia projektu: 12.08.2020 r.

Data zakończenia projektu: 11.08.2024 r.

Lider: Instytut Podstawowych Problemów Techniki Polskiej Akademii Nauk

Członek konsorcjum: Sieć Badawcza Łukasiewicz – Instytut Mikroelektroniki i Fotoniki

Kierownik Projektu: prof. dr hab. inż. Jerzy Rojek

O projekcie

Celem niniejszego projektu jest opracowanie nowatorskiego modelu komputerowego technologii spiekania wspomaganego polem elektrycznym FAST/SPS (ang. field assisted sintering technology/spark plasma sintering).

Spiekanie to technologia wytwarzania materiałów polegającą na konsolidacji materiału proszkowego w podwyższonej temperaturze (niższej od temperatury topnienia). W technologii FAST/SPS temperaturę spiekania uzyskuje się w wyniku przepływy prądu elektrycznego. Proszek umieszczony w grafitowej matrycy poddawany jest ciśnieniu wywieranemu przez dwa grafitowe stemple. Prąd elektryczny płynący przez grafitowe elementy układu i proszek nagrzewa je dzięki efektowi Joule’a. Do ważnych zalet technologii FAST/SPS w stosunku do konwencjonalnych technik spiekania należy znacznie wyższa efektywność procesu, ponieważ efekt Joule’a w strefie kontaktu podwyższa lokalnie temperaturę i zwiększa intensywność dyfuzji, która jest głównym mechanizmem zagęszczania w spiekaniu. Technologię FAST uważa się za kluczową technologię wytwarzania nowej generacji materiałów. Z krótkim czasem procesu wiąże się główna zaleta tej technologii – możliwość spiekania materiałów bez niepożądanego rozrostu ziaren.

Modelowanie komputerowe stanowi cenne narzędzie do lepszego zrozumienia i projektowania procesów wytwarzania technologią FAST/SPS. Modelowanie procesu spiekania stanowi jedno z większych wyzwań w modelowaniu materiałów. Rezultat procesu FAST/SPS jest wynikiem złożonego oddziaływania zjawisk elektrycznych, cieplnych oraz mechanicznych, dlatego proces ten powinien być traktowany jako sprzężone zagadnienie termo-elektryczno-mechaniczne.

Celem projektu jest opracowanie numerycznego modelu uwzględniającego różne pola fizyczne występujące w procesie FAST/SPS oraz zjawiska zachodzące na różnych poziomach obserwacji, w skali mikro- i makroskopowej. Model mikroskopowy będzie rozwinięty w ramach tak zwanej metody elementów dyskretnych (ang. DEM – discrete element method). To stosunkowo nowa metoda modelowania, w której materiał jest reprezentowany przez liczny zbiór cząstek (elementów dyskretnych) oddziałujących miedzy sobą, poprzez siły kontaktu. Jest to metoda odpowiednia do modelowania materiałów proszkowych.

Badania w niniejszym projekcie będą również obejmować opracowanie modelu metody

elementów skończonych procesu FAST w skali makroskopowej. Modele mikroskopowy i makroskopowy będą ze sobą powiązane. Symulacje makroskopowe zostaną wykorzystane do ustalenia warunków brzegowych w zagadnieniu w skali mikroskopowej. Wyniki symulacji w skali mikroskopowej posłużą do wyznaczenia efektywnych właściwości makroskopowych, które będą wykorzystane w symulacjach w skali makroskopowej. Obydwa modele, w skali mikro- i makroskopowej, będą uwzględniały sprzężone wzajemnie trzy pola fizyczne: pole temperatury, elektryczne i mechaniczne.

Badania teoretyczne i numeryczne będą powiązane z badaniami doświadczalnymi technologii FAST/SPS zastosowanej do proszków miedzi i związku międzymetalicznego NiAl. Pomiary doświadczalne pozwolą uzyskać parametry potrzebne w symulacjach numerycznych. Badania doświadczalne procesów FAST/SPS dostarczą informacji o wpływie parametrów procesów oraz ewolucji gęstości materiału zagęszczanego oraz ich właściwości fizycznych. Wyniki badań doświadczalnych będą niezbędne do opracowania i walidacji modeli numerycznych.

Kontakt

dr hab. inż. Marcin Chmielewski

Osoba odpowiedzialna w Łukasiewicz – IMiF za projekt

marcin.chmielewski@imif.lukasiewicz.gov.pl

 

Newsy

Przemysł i naukowcy razem o SPS

Czytaj więcej

baner ze zdjęciem z konferencji przedstawiający kobietę wydającą wejściówkę mężczyźnie w koszuli i podpisem "conference on fast/sps: 2nd edition"

Relacja z FAST/SPS

Czytaj więcej

grafika przedstawiająca zdjęcie z konferencji fast/sps oraz datę 16-18.10.2023 i logo Łukasiewicz - Institute of Microelectronics and Photonics

Dołączcie do nas na konferencji FAST/SPS!

Czytaj więcej

This will close in 0 seconds